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          摩方第二代超高精密微立體光刻3D打印系統(tǒng)microArch? S240正式發(fā)布

          來源:深圳摩方材料科技有限公司 2096 2020-09-23

          北京時間2020年9月23日,摩方科技(BMF,Boston Micro Fabrication)——超高精密3D打印系統(tǒng)的先行者,在中國西安高新國際會議中心,面向全球市場發(fā)布第二代超高精密微立體光刻3D打印系統(tǒng)microArch? S240。據(jù)悉,S240在深圳研發(fā)生產(chǎn),即日起正式開啟全球預(yù)售。

          摩方高精密3D打印系統(tǒng),以其超高分辨率和微尺度加工能力聞名于業(yè)界。二代新機型microArch? S240更是保有原有的特色,且在打印體積、打印速度和打印材料方面取得了突破性的進展。

          保持了第一代S140打印機在高精密方面的特點,microArch S240同樣擁有10μm打印精度,±25μm加工公差。為了滿足客戶在精密結(jié)構(gòu)件加工尺寸、加工效率及加工材料等方面的需求,S240具備更大的打印體積(100mm×100mm×75mm),打印速度提升最高10倍以上,能夠生產(chǎn)更大尺寸的零部件,或?qū)崿F(xiàn)更大規(guī)模的小部件產(chǎn)量。同時,在打印材料方面,S240支持高粘度陶瓷(≤20000cps)和耐候性工程光敏樹脂、磁性光敏樹脂等功能性復(fù)合材料,極大滿足了工業(yè)領(lǐng)域制造對產(chǎn)品耐用的需求,也為科研領(lǐng)域開發(fā)新型功能性復(fù)合材料提供支持。

          microArch S240基于BMF摩方的專利技術(shù)——面投影微立體光刻技術(shù)(PμSL)構(gòu)建,并融入了摩方自主開發(fā)的多項專利技術(shù)。摩方PμSL是一種微米級精度的3D光刻技術(shù),這一技術(shù)利用液態(tài)樹脂在UV光照下的光聚合作用,使用滾刀快速涂層技術(shù)大大降低每層打印的時間,并通過打印平臺三維移動逐層累積成型制作出復(fù)雜三維器件。因其復(fù)雜精密零部件快速成型的特點,摩方PuSL技術(shù)成為眾多領(lǐng)域原型器件開發(fā)驗證和終端零部件小批量制備的最佳選擇。這些領(lǐng)域包括:電子通訊、微電子機械系統(tǒng)、醫(yī)療器械、生物科技和制藥、仿生材料、微流控、微觀力學等眾多領(lǐng)域。

          “microArch S240 是摩方的一款面向工業(yè)批量生產(chǎn)的超高精密3D打印機。”摩方首席技術(shù)官夏春光博士說道,“它不但解決了市場上高精密3D打印技術(shù)慢的缺陷,同時還極大放寬了精密3D打印對材料的要求,比如拓寬了樹脂的粘度范圍,樹脂中添加納米顆粒等。因此它極大的推動了高精密3D打印從科研向工業(yè)的擴展?!?/span>

          “Until now, this coveted combination of quality, strength and resolution had been missing from industrial production, particularly for use cases that require high precision and micron level resolution,”摩方全球總裁John Kawola說道,“With the microArch S240, users can finally make end-use micro parts at speeds that are required for production, with resolution, accuracy and precision that is true to CAD. Smaller parts no longer need to mean bigger headaches or bigger price tags for manufacturers and engineers.”

          使microArch S240超高精密3D打印機成為理想的科研和工業(yè)生產(chǎn)設(shè)備,其附加特性包括:

          · 先進的薄膜滾刀涂層技術(shù)允許更高的打印速度,使打印速度最高提升10倍以上;

          · 能夠處理高達20000cps的高粘度樹脂,從而生產(chǎn)出耐候性更強、功能更強大的零部件;

          · 能夠打印工業(yè)級復(fù)合聚合物和陶瓷光敏材料,包括與巴斯夫合作開發(fā)的全新功能工程材料。

          “The new BMF RG material from the Forward AM Ultracur3D? photopolymer resin line will enable users to achieve ultra-high resolution of their parts,” 巴斯夫醫(yī)療和牙科光聚合物業(yè)務(wù)開發(fā)經(jīng)理Oleksandra Blacka說道, “The microArch? 240 printer is addressing a market that has previously been unserved. This collaboration will now enable customers, especially in the medical industry, to assemble complex items that were too small to handle on previous printing platforms.”

          連接器龍頭企業(yè)安費諾(Amphenol)王翔經(jīng)理:

          “高強度材料和大幅面打印尺寸一直是我們希望BMF可以突破的方向,這樣可以讓我們在研發(fā)階段更加得心應(yīng)手?!?/span>

          中國增材制造產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟李方正博士:

          “S240的發(fā)布是讓人期待的,成型尺寸增大、打印效率提高,且適配更多功能性打印材料,將大大拓寬其在工業(yè)領(lǐng)域和科研領(lǐng)域的應(yīng)用。這也是高精密3D打印技術(shù)所取得的突破性進展,為微尺度精密器械的制造帶來更多機遇。”

          有關(guān)microArch S240的更多信息,請訪問www.bmftec.cn/S240網(wǎng)站。

          ■ 有關(guān)摩方 ■

          重慶摩方科技有限公司(BMF,Boston Micro Fabrication)成立于2016年,專注于高精密3D打印領(lǐng)域,是全球高精密3D打印技術(shù)及精密加工能力解決方案提供商。目前,摩方在新加坡、波士頓、深圳、東京和重慶均設(shè)有辦事處,擁有來自全球17個國家近500家合作客戶。有關(guān)BMF的更多信息,請訪問www.bmftec.cn網(wǎng)站。

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