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          先進(jìn)納米器件中的結(jié)構(gòu)與性質(zhì)動(dòng)態(tài)表征和操控研究

          來源:納米人 1559 2019-07-17


          第一作者:徐何軍

          通訊作者:吳幸、孫立濤

          通訊單位:華東師范大學(xué)、東南大學(xué)


          核心內(nèi)容:


          1. 總結(jié)了納米器件的發(fā)展歷程。

          2. 系統(tǒng)分析了原位TEM表征和操控納米器件的特點(diǎn)與優(yōu)勢(shì).

          3. 系統(tǒng)總結(jié)了原位電鏡應(yīng)用于晶體管及非易失性存儲(chǔ)器中器件原理的最新研究進(jìn)展。


          納米器件的表征


          隨著信息技術(shù)的不斷發(fā)展,構(gòu)筑信息網(wǎng)絡(luò)的新型器件也不斷涌現(xiàn),這其中就包括晶體管,非易失性存儲(chǔ)器等在內(nèi)的許多不同類型器件。然而隨著器件尺寸不斷縮小,缺陷在實(shí)現(xiàn)納米器件的高性能中起著越來越重要的作用。并且納米器件中的界面在各種外部環(huán)境下也表現(xiàn)出非常復(fù)雜的特性,這些都極大地影響了器件的性能。為了揭示缺陷的行為和演變以及納米器件中的界面特性,非常需要用于表征缺陷和界面的有效工具和技術(shù)。


          原位TEM用于納米器件


          原位透射電子顯微鏡(TEM)是精確定位器件內(nèi)部的結(jié)構(gòu)信息、確定化學(xué)組成的有效工具。此外,TEM能夠?qū)崿F(xiàn)多場(chǎng)耦合,原位TEM可以用于觀察、實(shí)時(shí)分析納米器件的微觀結(jié)構(gòu)和成分在不同外場(chǎng)和環(huán)境中失效過程的動(dòng)態(tài)演變。揭示納米器件在外場(chǎng)作用下的演變規(guī)律,對(duì)納米器件的可控制備、性能調(diào)控和應(yīng)用都具有重要的意義。由此及時(shí)地總結(jié)TEM在納米器件的整體可靠性和失效分析十分重要。


          綜述簡(jiǎn)介


          有鑒于此,華東師范大學(xué)吳幸課題組和東南大學(xué)孫立濤課題組簡(jiǎn)述了納米器件的發(fā)展歷程,系統(tǒng)地分析了原位透射電子顯微學(xué)表征和操控納米器件的特點(diǎn)與優(yōu)勢(shì),系統(tǒng)地總結(jié)了原位電鏡應(yīng)用于晶體管及非易失性存儲(chǔ)器中器件原理的最新研究進(jìn)展,并展望了其未來的發(fā)展方向。


          圖1.納米器件結(jié)構(gòu)的發(fā)展歷史路線圖。


          隨著器件尺寸的不斷減小,構(gòu)成納米器件的結(jié)構(gòu)和材料也不斷變化。應(yīng)力硅、高介電常數(shù)柵氧化層、金屬柵、Fin-FET等結(jié)構(gòu)紛紛涌現(xiàn)。二維材料以其具有高遷移率、完美界面、無懸掛鍵等優(yōu)點(diǎn),基于二維材料的晶體管、隧道場(chǎng)效應(yīng)晶體管、半浮柵存儲(chǔ)器等各類器件也逐一出現(xiàn)。


          該綜述的主體部分主要介紹了原位透鏡技術(shù)在晶體管以及包含阻變儲(chǔ)存器(RRAM)、相變存儲(chǔ)器(PCM)、鐵電存儲(chǔ)器(FeRRAM)在內(nèi)的非易失性存儲(chǔ)器兩大類器件研究中的應(yīng)用。



          圖2.各種成像技術(shù)與多種分析功能相結(jié)合,使原位TEM實(shí)現(xiàn)了高分辨率、高時(shí)間分辨率和高能量分辨率。


          這都?xì)w功于以下兩點(diǎn):原位電鏡不僅可以進(jìn)行原子級(jí)別的成像、對(duì)材料進(jìn)行化學(xué)成分的計(jì)量分析,觀察到了晶體管中氧化層的擊穿機(jī)理;還可以用電子束作為加工器件的工具,加工制作了石墨烯納米帶及石墨烯側(cè)柵器件。TEM結(jié)合各種成像技術(shù)與多種分析功能,并且能夠?qū)崿F(xiàn)多場(chǎng)耦合,這使得原位電鏡可用于研究阻變存儲(chǔ)器、相變存儲(chǔ)器及鐵電阻變存儲(chǔ)器的阻變機(jī)制。比如通過原位電鏡在RRAM中觀察到主要的三種導(dǎo)電細(xì)絲演變機(jī)理為金屬遷移機(jī)制(ECM)和空位遷移機(jī)制(VCM)及兩者共存的機(jī)制。


          最后進(jìn)一步闡述原位電鏡對(duì)揭示結(jié)構(gòu)-性質(zhì)關(guān)系起著橋梁作用的基本觀點(diǎn)(如圖3所示)。對(duì)原位電鏡未來的技術(shù)發(fā)展提出幾點(diǎn)挑戰(zhàn),包括評(píng)估電子曝光產(chǎn)生的熱效應(yīng)以及結(jié)構(gòu)破壞對(duì)器件研究的影響;關(guān)于縮短EDS和EELS收集信號(hào)的時(shí)間進(jìn)而實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)監(jiān)測(cè)材料成分變化;發(fā)展并提高磁性樣品的表征技術(shù);實(shí)現(xiàn)三維實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)表征樣品等。



          圖3. 原位電鏡作為納米器件的結(jié)構(gòu)和性質(zhì)之間連接的橋梁。


          參考文獻(xiàn):

          H.Xu, X. Wu, X. Tian, J. Lia, J. Chu, L. Sun. Dynamic structure-properties characterization and manipulation in advanced nanodevices. Materials Today Nano,2019.

          DOI:10.1016/j.mtnano.2019.100042

          https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S2588842019300598

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