石英坩堝簡(jiǎn)介：

1、石英坩堝可在1450度以下使用，分透明和不透明兩種。用電弧法制的半透明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅，發(fā)展大規(guī)模集成電路必不可少的基礎(chǔ)材料。

2、不能和HF接觸，高溫時(shí)，極易和苛性堿及堿金屬的碳酸鹽作用。

3、石英坩堝適于用K2S2O7，KHSO4作熔劑熔融樣品和用Na2S207(先在212度烘干)作熔劑處理樣品。

4、石英質(zhì)脆，易破，使用時(shí)要注意。

5、除HF外，普通稀無(wú)機(jī)酸可用作清洗液。

國(guó)內(nèi)常用拉制單晶硅用石英坩堝18英寸和20英寸22英寸也有廠家使用22及以上的坩堝。目前國(guó)內(nèi)坩堝生產(chǎn)大廠家生產(chǎn)的坩堝技術(shù)都比較成熟。其生產(chǎn)使用原料石英砂由美國(guó)進(jìn)口和挪威高純石英砂兩種。也有小廠使用國(guó)產(chǎn)料其原料生產(chǎn)的石英坩堝對(duì)拉制單晶硅時(shí)其穩(wěn)定性都有一定影響。

目前坩堝生產(chǎn)涂層技術(shù)已被大多數(shù)廠家使用就是在普通石英砂溶制的坩堝表面涂上一層二氧化鋇溶液使其形成致密層，其致密層能阻止單晶硅高溫拉制過(guò)程中硅與石英坩堝反應(yīng)提高成晶率。

 石英坩堝生產(chǎn)工藝流程：高純石英砂→高純石墨模具→真空裝料成型→真空電弧熔制→自然冷卻脫?！③釄宄醪綑z測(cè)→冷加工噴砂、切斷、倒角→石英坩堝二次檢測(cè)→超凈清洗、超聲、高壓噴淋、自動(dòng)烘干。加溫烘烤，噴涂→石英坩堝三次檢驗(yàn)→真空包裝→成品入庫(kù)。

石英坩堝使用及維護(hù)：

（1）石英坩堝主要化學(xué)成分是二氧化硅，除氫氟酸外不與其它酸作用，易與苛性堿及堿金屬碳酸鹽作用。

（2）石英坩堝對(duì)熱的穩(wěn)定性很好，可直接放在火焰上加熱。

（3）石英坩堝和玻璃器皿一樣，容易破碎，使用時(shí)要特別小心。

（4）用石英坩堝可以用硫酸氫鉀（鈉），硫代硫酸鈉（在212攝氏度烘干）等作為熔劑，熔融溫度不許超過(guò)800攝氏度。

參考文獻(xiàn)：

百度百科——石英坩堝